라만 분광법용 785nm 홀로그램 노치 필터

홀로그램 노치 필터는 특정 파장 범위의 빛을 선택적으로 투과시키고 나머지는 차단하는 광학 필터입니다. 이 필터는 홀로그램 기록 프로세스를 사용하여 유리 기판에 주기적인 구조를 생성하여 원하지 않는 파장의 파괴 간섭을 일으킵니다.

785nm 홀로그램 노치 필터는 785nm 파장 범위의 레이저 광을 차단합니다. 일반적으로 라만 분광법에서 레이저 광의 레일리 산란을 중지하고 라만 스펙트럼의 신호 대 잡음비를 개선하는 데 사용됩니다.

UVWAVETEK은 전 세계적으로 고품질 785nm 노치 필터를 생산하는 노치 필터 전문 제조업체입니다. 이 필터는 매우 효율적이며 원하는 파장에 대해 최대 90%의 높은 투과율을 제공합니다. 또한 내구성이 뛰어나고 고온 및 습도를 견딜 수 있어 모든 실험실 또는 산업 환경에서 탁월한 선택입니다.

특징

- NF785nm용 노치 필터

- 높은 감쇠

- 낮은 삽입 손실

- 조정 가능한 파장

- 안정적인 환경 코팅

- ISO9001, RoHS 인증

매개변수

스펙트럼 전송 곡선

애플리케이션

785nm 홀로그램 광학 노치 필터는 일반적으로 라만 분광법에서 레이저 광의 레일리 산란을 차단하고 라만 스펙트럼의 신호 대 잡음비를 개선하는 데 사용됩니다. 이것은 특정 파장 범위의 빛을 선택적으로 전송하고 나머지는 차단해야 하는 라만 분광학 응용 분야에서 중요한 구성 요소입니다.

라만 분광기의 개발 역사

라만 분광법은 1928년 인도의 물리학자 찬드라세카라 벤카타 라만 경이 발견했습니다. 그는 빛이 물질에 비칠 때 빛의 작은 부분이 다른 방향으로 산란된다는 것을 발견했습니다. 산란광은 라만 효과로 알려진 파장을 변경할 수 있습니다. 이 효과는 재료의 화학적 조성을 분석하는 데 사용할 수 있습니다. 라만 분광법은 화학, 물리학, 생물학 및 재료 과학에서 귀중한 도구가 되었습니다.

라만 분광법은 발견 이후 상당한 발전을 이루었습니다. 1960년대에 레이저가 발명되면서 라만 분광기의 감도와 분해능이 크게 향상되었습니다. 1970년대에 공명 라만 분광법이 개발되어 분자의 들뜬 전자 상태를 연구할 수 있게 되었습니다. 1980년대에 표면 강화 라만 분광법(SERS)이 발견되어 라만 분광법의 감도를 몇 배나 크게 높였습니다.

오늘날 라만 분광법은 다양한 과학 기술 분야에서 널리 사용되는 기술입니다. 그것은 제약 산업에서 약물의 순도를 분석하고, 법의학에서 미량 증거를 식별하고, 나노 기술에서 나노 입자의 특성을 연구하는 데 사용됩니다. 785nm 홀로그램 노치 필터를 이용한 라만 분광기의 개발은 물질의 물리적, 화학적 특성을 이해하는 데 크게 기여했으며 많은 과학 기술 발전의 길을 열었습니다.

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