172 Nm 엑시머 램프 조명 튜브 산업 용

기능

1. 단일 파장, 농축 자외선 출력

2. 비 일관된 빛, 넓은 영역을 커버 할 수 있습니다

3. 전극의 부식 없음, 긴 수명

4. 언제든지 켜고 끌 수 있으며 예열 할 필요가 없습니다.

5. 주변 온도의 영향을 받지 않고 실행 중에서

6. 콜드 광원, 적외선 출력을 생성하지 않으며 가공 중인 물체에 명백한 가열 효과가 없습니다.

7. 환경 친화적 인 수은 무료

사양

1. 모델 번호: UWB172-150W

2. 피크 파장 : 172nm

3. 크기: 55*600mm

4. 입력 전압 : 220vAC

5화 파워: 150w

6. 빔 각도 : 100 °

7. 방사선 강도 : 10mw / cm² (0cm)

8. 작동 온도 범위 : -10 ° C - 150 ° C

9. 수명: 4000시간

응용 프로그램

표면 청소. 웨이퍼 와 평면 패널 디스플레이를 청소하고 포토 레지스트를 제거하는 데 사용할 수 있습니다.

폴리이미드, 불소 물질 등과 같은 표면 에칭 및 수정

저온 광화학 증기 증착(사진-CVD). 전자 필름 TA2O5, HFO2 등

산화, 빛 어닐링. SiO의 화학 적 개선₂전자 필름

실온에서 촉매 발화. 플라스틱 표면에 금속 전극을 플레이트

표면 장력 및 습성을 높이기 위한 표면 활성화

유기 분해. 유기 탄소를 제거하여 초순수물을 생산하고, 살충제 잔류물을 분해하고, 폐수 인쇄 및 염색 폐수의 광화학 적 탈색화를 제거합니다.

고순도 오존 생성

표면 수정 분야에서 172 nm 엑시머 광원의 장점

표면 수정 기술은 많은 산업 분야에서 사용됩니다. 일반적인 방법에 비해, 엑시머 램프를 이용한 물질 변형은 분자 또는 원자 수준에서 화학 반응을 통해 이루어지므로 정밀하게 변형된 것으로 간주됩니다.

이것은 재료에 영향을 미치지 않고 먼지 입자를 생성하지 않는 깨끗한 수정이며 보다 정교한 수준의 재료 수정이 필요한 분야에서 효과적인 것으로 간주됩니다.

진공 UV 빛은 172 nm의 파장에서 엑시머 램프에 의해 생성됩니다. 172nm 방사선은 산소에 의해 크게 흡수되어 고농도의 활성 산소를 생성할 수 있습니다. 진공 UV 광은 유기물의 분자 결합을 깨뜨릴 수 있어 세척 품질 향상, 세척 속도 단축 및 제품 수율 향상과 같은 많은 공정에서 이점을 제공하는 데 도움이 됩니다.

미세 유체 장치는 현재 생물학적 및 의료 응용 분야를 포함한 다양한 분야에서 활용되고 있습니다. 미세 한 구조를 가진 이러한 장치에서 결합 기술을 사용 하려면 품질과 정밀도의 높은 수준의 결합 방법이 필요. 엑시머 램프를 사용하는 본딩은 접착제제를 필요로 하지 않으며 열 변형 및 손상을 일으키지 않으므로 미세 유체 장치를 결합하는 데 적합합니다.

코로나 방전 및 플라즈마 기술에서, 대상 물체는 방전에 직접 노출되고 손상될 수 있다. 그러나 엑시머 램프 기술에서 물체는 진공 UV 빛으로 단순히 조사되며 손상이 발생하지 않습니다.

코로나 방전 및 플라즈마 기술에서 전극 스패터링에 의해 생성된 먼지 입자는 공기 흐름에 의해 위쪽으로 날아가 대상 물체의 표면에 달라붙을 수 있다. 이러한 문제는 깨끗한 처리를 보장하는 엑시머 램프 (산업용 172 nm 엑시머 램프 조명 튜브) 기술을 사용하여 해결됩니다. 코로나 방전 및 방전을 사용하는 다른 플라즈마 기술과는 달리, 빛을 이용한 엑시머 램프 기술은 불규칙한 조사를 일으키지 않으며 넓은 지역에 걸쳐 균일하고 효율적인 처리를 달성한다.

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